第30回アモルファスセミナー・プログラム案
会場：岐阜ルネッサンスホテル
日時：2003年12月11日（木）、12日（金）
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12月11日（木）
12:30～12:40 Opening Address 嶋川 晃一 (岐阜大学)
・一般講演
座長 A.V. Kolobov
12:40～13:10 「医療用大面積X線センサーに向けて」
佐藤 敏幸 (株式会社島津製作所)
13:10～13:40 「走査型プローブ顕微鏡によるナノスケール電気相変化記録」
後藤 民浩、菅原 健太郎、田中 啓司 (北海道大学)
13:40～14:10 「Unusual atomic arrangements in a-Si. Are they new defects?」
S.Kugler (Budapest University of Technology and Economics )
座長 金光 義彦
14:10～14:40 「超広帯域周波数分解分光法で探るアモルファ半導体の
発光再結合過程」
青木 彪 (東京工芸大学)
14:40～15:10 「青色発光有機高分子ポリフルオレンの光物性・電子物性：
無機アモルファス半導体との違いを中心として」
内藤 裕義 (大阪府立大学)
15:10～15:30 休憩（コーヒーブレイク）
・特別講演
座長 嶋田 壽一、岡本 博明
15:30～16:30 「DVDおよびOUMアモルファス相変化メモリー、現状と今後の展望 」
太田 威夫 (ECD Inc.)
16:30～17:30 「薄膜シリコンの成長過程」
松田 彰久 (産業技術総合研究所)
17:30～18:00 会場移動
18:00～20:00 バンケット
20:30～ Night Session
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12月12日（金）
・一般講演
座長 松村 英樹
09:00～09:30 「シラン・アンモニア系のCat-CVD過程における気相診断」
梅本 宏信 (北陸先端科学技術大学院大学)
09:30～10:00 「Si-Ge-C系微結晶の低温堆積」
宮島 晋介、山田 明、小長井 誠 (東京工業大学)
10:00～10:30 「大面積Cat-CVD装置と成膜プロセス」
斎藤 一也 (株式会社アルバック)
10:30～10:45 コーヒーブレイク
座長 磯村 雅夫
10:45～11:15 「有機金属化合物を用いる有機触媒CVD法による
有機・無機ハイブリッド機能性薄膜の開発と低温成膜」
中山 弘 (大阪市立大学)
11:15～11:45 「ナノシリコンのサイズ制御と発光機構」
岩瀬 満雄 (東海大学)
11:45～13:00 昼食
座長 堀 勝
13:00～13:30 「プラズマCVDによる微結晶シリコン薄膜形成の進展」
近藤 道雄 (産業技術総合研究所)
13:30～14:00 「シランプラズマ中の活性種の計測とその素過程」
河野 明廣 (名古屋大学)
14:00～14:30 「VHFプラズマCVDによる結晶シリコンナノ粒子の生成と
膜への取り込み」
白谷 正冶 (九州大学)
14:30～14:45 コーヒーブレイク
・ パネルディスカション
「薄膜Si太陽電池～高速製膜と高効率化～」
座長 近藤 道雄
14:45～15:00 「薄膜太陽電池用次世代TCO」
佐藤 一夫 (旭硝子株式会社)
15:00～15:15 「大気圧プラズマCVD法によるシリコン発電層の超高速成膜」
松本 光弘 (三洋電機株式会社)
15:15～15:30 「薄膜シリコン太陽電池の高効率化」
山本 憲治 (鐘淵化学工業株式会社)
15:30～15:45 「VHFプラズマCVDによるSi系薄膜の高速製膜」
竹内 良昭 (三菱重工業株式会社)
15:45～16:00 「フィルム基板太陽電池製造プロセスの高スループット化」
高野 章弘 (富士電機アドバンストテクノロジー株式会社)
16:00～16:15 「微結晶シリコンを用いた大面積高効率太陽電池」
齋藤 恵志(キャノン株式会社)
16:15～16:45 全体討論
16:45～17:00 会計報告、Closing Remark